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什么是陶瓷熔块?_

什么是陶瓷熔块?

发布时间:2025-07-31



 

一、熔块的物理化学本质

熔块(Frit)是一种非平衡态玻璃体,由石英(SiO₂)、助熔剂(如Na₂O、K₂O、B₂O₃)、稳定剂(如Al₂O₃、ZnO)等原料在1200–1500℃ 熔融后水淬而成。这一骤冷过程使熔体原子排列冻结为无序网络结构,赋予其四大特性:

1.  化学不可溶性:水淬形成的Si-O-B共价键网络,使水溶性原料(如硼砂、硝酸钾)转化为稳定玻璃相,避免釉浆水解;

2.  热力学亚稳态:高自由能状态使其在釉烧中比生料更易参与反应(活化能降低30–40%);

3.  结构均匀性:熔融态分子级混合消除原料局部富集,减少釉面针孔(缺陷率下降50–70%);

4.  毒性固化能力:铅、镉等重金属被硅氧四面体包裹,浸出毒性降至1ppm以下(达RoHS标准)。

科学本质:熔块是通过高温重构化学键,将活性原子“囚禁”于硅氧网络中的安全载体

 

二、熔块的五大核心作用机制

(一)解决水溶性化合物的工艺困局

可溶性原料(如硼砂、碳酸钾)直接加入釉浆会导致:

 釉浆絮凝:Na⁺电离破坏胶体稳定性(Zeta电位>|30mV|→悬浮性丧失);

 成分偏析:K₂CO₃局部富集→烧成时剧烈分解→釉面气泡(直径>100μm)。 熔块化后,离子键转为共价键网络,溶解度降至<0.01g/100mL。

(二)预排气体与缺陷控制

生料中的碳酸盐(CaCO₃)、硝酸盐(KNO₃)在釉烧时分解:

 

CaCO₃ → CaO + CO₂↑(880℃)  4KNO₃ → 2K₂O + 4NO₂↑ + O₂↑(560℃)  

熔块化使气体在1300℃预熔阶段释放,避免釉层封闭后气体滞留形成针孔。

(三)调控釉料热力学行为

 降低熔融温度:B₂O₃引入形成[BO₃]三角体,破坏硅氧网络连续性,使釉始熔温度从1100℃降至850℃;

 优化热膨胀系数:Al₂O₃/SiO₂比例精准控制,匹配坯体CTE(如锆白熔块CTE=190×10⁻⁷/℃±5);

 拓宽烧成窗口:梯度熔块(如Na₂O-CaO-B₂O₃体系)高温黏度变化平缓,允许±20℃温差波动。

(四)保障生物与环境安全

 铅毒性固化:Pb²⁺嵌入[SiO₄]四面体间隙,胃酸浸泡24h铅溶出量<4μg/dm²(国标限值50μg/dm²);

 放射性核素固定:含锆熔块可固化核废料中Cs⁺(晶格固化率>99.9%)。

(五)稳定色料发色性能

熔块组成决定色料呈色稳定性:

色料类型

透明熔块中发色

锆白熔块中发色

机理

镨黄

鲜艳柠檬黄

饱和度↓30%

ZrSiO₄包裹抑制Pr离子扩散

钴蓝

亮蓝色

泛灰(b*值↓3)

ZnO促进Co²⁺六配位

铁红

稳定棕红

无明显变化

高铝环境抑制Fe³⁺还原

 

三、熔块的分类与技术演进

(一)按功能与组分分类

1.  透明熔块(水晶熔块)

 组分:SiO₂(65–70%)、Na₂O(12–15%)、CaO(5–8%)

 特性:折射率1.52–1.55,透光率>90%,适用于釉上彩保护层

1.  乳浊熔块

 锆白熔块:ZrSiO₄(10–15%)→ 乳浊度>85%(替代20%硅酸锆)

 钛白熔块:TiO₂(12–16%)→ 锐钛矿/金红石相变调控白度(L*>95)

1.  无铅熔块(环保型)

 配方:B₂O₃(10–12%)、SrO(5–7%)、ZnO(7–9%)替代PbO

 性能:始熔温度780℃,与含铅熔块相当,光泽度>95GU

1.  低温快烧熔块

 技术核心:Li₂O(3–5%)+ B₂O₃(15–18%)

 烧成曲线:1060–1120℃/30min(较传统工艺节能40%)

1.  功能性熔块

 抗菌熔块:Ag⁺/Zn²⁺掺杂→ 大肠杆菌杀灭率>99.9%

 导电熔块:SnO₂(15–20%)→ 体积电阻率10³Ω·cm(静电喷涂适用)

(二)前沿制备技术

1.  工业固废再生熔块

 原料:回收电子玻璃(50%)、光伏废料(30%)、尾矿(20%)

 工艺:梯度熔制(1050℃→1400℃→1550℃),金红石/锐钛矿比例(2–3.5):1调控相变

 性能:抗热震温度260℃,烧成范围>200℃

1.  等离子体熔融技术

 优势:熔融时间缩短至15min(传统工艺需2h),能耗降低50%

 产物:纳米级熔块(D50=80nm),釉面光泽度提升20%

 

四、产业转化挑战与技术突破

(一)发色稳定性控制

 熔块-色料适配模型: 建立熔块RO/R₂O比值(碱度指数)与色料呈色关系:

 RO/R₂O>3.5 → 高碱度 → 钴蓝发色偏绿

 RO/R₂O<2.8 → 低碱度 → 镨黄饱和度下降

(二)无铅化技术瓶颈

性能对比

含铅熔块

锶-硼体系无铅熔块

技术差距

光泽度(GU)

105–110

92–96

↓10–15%

烧成范围(℃)

±15

±8

↓50%

釉面张力(N/m)

0.35

0.42

↑20%

突破方向:La₂O₃(2–3%)掺杂可降低熔体张力至0.38N/m

(三)超低温熔块开发

 纳米熔块:水热合成SiO₂-K₂O凝胶 → 800℃烧结(较传统熔点↓300℃)

 金属有机框架前驱体:ZIF-8热解生成ZnO/SiO₂复合熔块(始熔温度650℃)

 

熔块不仅是解决工艺难题的工具,更是釉层微结构的原子级设计师

熔块的价值不在于其成分,而在于原子重构过程中赋予的“介稳相特权”——在玻璃网络中创造自然界不存在的原子组合,却使其在热力学刀刃上稳健行走。

 

什么是陶瓷熔块?_

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