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什么是陶瓷熔块?
发布时间:2025-07-31
熔块(Frit)是一种非平衡态玻璃体,由石英(SiO₂)、助熔剂(如Na₂O、K₂O、B₂O₃)、稳定剂(如Al₂O₃、ZnO)等原料在1200–1500℃ 熔融后水淬而成。这一骤冷过程使熔体原子排列冻结为无序网络结构,赋予其四大特性:
1. 化学不可溶性:水淬形成的Si-O-B共价键网络,使水溶性原料(如硼砂、硝酸钾)转化为稳定玻璃相,避免釉浆水解;
2. 热力学亚稳态:高自由能状态使其在釉烧中比生料更易参与反应(活化能降低30–40%);
3. 结构均匀性:熔融态分子级混合消除原料局部富集,减少釉面针孔(缺陷率下降50–70%);
4. 毒性固化能力:铅、镉等重金属被硅氧四面体包裹,浸出毒性降至1ppm以下(达RoHS标准)。
科学本质:熔块是通过高温重构化学键,将活性原子“囚禁”于硅氧网络中的安全载体。
可溶性原料(如硼砂、碳酸钾)直接加入釉浆会导致:
● 釉浆絮凝:Na⁺电离破坏胶体稳定性(Zeta电位>|30mV|→悬浮性丧失);
● 成分偏析:K₂CO₃局部富集→烧成时剧烈分解→釉面气泡(直径>100μm)。 熔块化后,离子键转为共价键网络,溶解度降至<0.01g/100mL。
生料中的碳酸盐(CaCO₃)、硝酸盐(KNO₃)在釉烧时分解:
CaCO₃ → CaO + CO₂↑(880℃) 4KNO₃ → 2K₂O + 4NO₂↑ + O₂↑(560℃)
熔块化使气体在1300℃预熔阶段释放,避免釉层封闭后气体滞留形成针孔。
● 降低熔融温度:B₂O₃引入形成[BO₃]三角体,破坏硅氧网络连续性,使釉始熔温度从1100℃降至850℃;
● 优化热膨胀系数:Al₂O₃/SiO₂比例精准控制,匹配坯体CTE(如锆白熔块CTE=190×10⁻⁷/℃±5);
● 拓宽烧成窗口:梯度熔块(如Na₂O-CaO-B₂O₃体系)高温黏度变化平缓,允许±20℃温差波动。
● 铅毒性固化:Pb²⁺嵌入[SiO₄]四面体间隙,胃酸浸泡24h铅溶出量<4μg/dm²(国标限值50μg/dm²);
● 放射性核素固定:含锆熔块可固化核废料中Cs⁺(晶格固化率>99.9%)。
熔块组成决定色料呈色稳定性:
色料类型 |
透明熔块中发色 |
锆白熔块中发色 |
机理 |
镨黄 |
鲜艳柠檬黄 |
饱和度↓30% |
ZrSiO₄包裹抑制Pr离子扩散 |
钴蓝 |
亮蓝色 |
泛灰(b*值↓3) |
ZnO促进Co²⁺六配位 |
铁红 |
稳定棕红 |
无明显变化 |
高铝环境抑制Fe³⁺还原 |
1. 透明熔块(水晶熔块)
● 组分:SiO₂(65–70%)、Na₂O(12–15%)、CaO(5–8%)
● 特性:折射率1.52–1.55,透光率>90%,适用于釉上彩保护层
1. 乳浊熔块
● 锆白熔块:ZrSiO₄(10–15%)→ 乳浊度>85%(替代20%硅酸锆)
● 钛白熔块:TiO₂(12–16%)→ 锐钛矿/金红石相变调控白度(L*>95)
1. 无铅熔块(环保型)
● 配方:B₂O₃(10–12%)、SrO(5–7%)、ZnO(7–9%)替代PbO
● 性能:始熔温度780℃,与含铅熔块相当,光泽度>95GU
1. 低温快烧熔块
● 技术核心:Li₂O(3–5%)+ B₂O₃(15–18%)
● 烧成曲线:1060–1120℃/30min(较传统工艺节能40%)
1. 功能性熔块
● 抗菌熔块:Ag⁺/Zn²⁺掺杂→ 大肠杆菌杀灭率>99.9%
● 导电熔块:SnO₂(15–20%)→ 体积电阻率10³Ω·cm(静电喷涂适用)
1. 工业固废再生熔块
● 原料:回收电子玻璃(50%)、光伏废料(30%)、尾矿(20%)
● 工艺:梯度熔制(1050℃→1400℃→1550℃),金红石/锐钛矿比例(2–3.5):1调控相变
● 性能:抗热震温度260℃,烧成范围>200℃
1. 等离子体熔融技术
● 优势:熔融时间缩短至15min(传统工艺需2h),能耗降低50%
● 产物:纳米级熔块(D50=80nm),釉面光泽度提升20%
● 熔块-色料适配模型: 建立熔块RO/R₂O比值(碱度指数)与色料呈色关系:
○ RO/R₂O>3.5 → 高碱度 → 钴蓝发色偏绿
○ RO/R₂O<2.8 → 低碱度 → 镨黄饱和度下降
性能对比 |
含铅熔块 |
锶-硼体系无铅熔块 |
技术差距 |
光泽度(GU) |
105–110 |
92–96 |
↓10–15% |
烧成范围(℃) |
±15 |
±8 |
↓50% |
釉面张力(N/m) |
0.35 |
0.42 |
↑20% |
突破方向:La₂O₃(2–3%)掺杂可降低熔体张力至0.38N/m
○ 纳米熔块:水热合成SiO₂-K₂O凝胶 → 800℃烧结(较传统熔点↓300℃)
○ 金属有机框架前驱体:ZIF-8热解生成ZnO/SiO₂复合熔块(始熔温度650℃)
熔块不仅是解决工艺难题的工具,更是釉层微结构的原子级设计师。
熔块的价值不在于其成分,而在于原子重构过程中赋予的“介稳相特权”——在玻璃网络中创造自然界不存在的原子组合,却使其在热力学刀刃上稳健行走。